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主營產(chǎn)品:X射線熒光光譜儀

硅青銅中雜質(zhì)元素測(cè)定:直讀光譜SPECTRO LAB S應(yīng)用

點(diǎn)擊次數(shù):884  更新時(shí)間:2023-03-31

硅青銅是銅合金青銅中的特定牌號(hào),其包括Qsi3-1 ,Qsil -3 ,Qsi0.6-2 ,其要求分析檢測(cè)九個(gè)元素,由于分析元素多,標(biāo)準(zhǔn)含量低,使得分析檢測(cè)難度較大,根據(jù)光電直讀光譜儀的特點(diǎn),制作了硅青銅的工作曲線和分析程序,并進(jìn)行了比較,滿足了硅青銅的分析要求,檢測(cè)結(jié)果準(zhǔn)確可靠,保證了分析檢測(cè)的及時(shí)、快速、準(zhǔn)確,節(jié)省了大量的人力和物力。



儀器

直讀光譜分析儀SPECTRO LAB S(德國斯派克公司)



實(shí)驗(yàn)部分


國家標(biāo)準(zhǔn)樣品Qsi313,成分如下表。

表1.png



比對(duì)校核


取硅青銅標(biāo)樣Qsi1-3進(jìn)行分析,每個(gè)樣品分析三次取平均值,與化學(xué)定值結(jié)果比對(duì),列出部分代表性元素,具體結(jié)果見表。


硅青銅標(biāo)樣對(duì)比數(shù)據(jù)(%).png


從表中數(shù)據(jù)可以看出,其分析結(jié)果與化學(xué)定值一致性良好,差值小于允許差,說明該分析方法可靠,準(zhǔn)確度高。



精密度


取已定值的國家標(biāo)準(zhǔn)樣品Qsi313-923-11, 進(jìn)行精密度試驗(yàn),連續(xù)激發(fā)12次,計(jì)算平均值、標(biāo)準(zhǔn)偏差、相對(duì)偏差,結(jié)果見表。


精密度檢驗(yàn)(%).png


從表數(shù)據(jù)中可以看出,各元素的RSD值均在0.87%~8.39%,精密度非常高,標(biāo)準(zhǔn)要求。


通過試驗(yàn),證明該分析方法簡(jiǎn)便快速,精密度和準(zhǔn)確度高,能夠滿足硅青銅在日常分析檢測(cè)的要求,在日常分析檢測(cè)中,只要保證試樣面符合分析要求,就能夠保證分析的準(zhǔn)確性。



直讀光譜分析儀SPECTRO LAB S



40多年來,SPECTRO全心投入開發(fā)出發(fā)射光譜儀。今天,斯派克公司引入CMOS探測(cè)器技術(shù),在所有同類分析儀中,SPECTROLAB S所提供分析速度超出想象,低元素檢測(cè)限,同時(shí)也可以提供超長(zhǎng)的正常運(yùn)行時(shí)間和非常具有前瞻性的靈活性。


SPECTRO LAB S 擁有基于CMOS的探測(cè)器的記錄系統(tǒng),該系統(tǒng)非常適合于金屬分析。從微量元素到多基體應(yīng)用,它提供了快速、高度準(zhǔn)確、異常靈活的技術(shù)選擇。


樣品的分析速度是儀器先進(jìn)性的重要標(biāo)志,SPECTRO LAB S的推出了金屬分析市場(chǎng)對(duì)速度的需求。例如:當(dāng)檢測(cè)低合金鋼時(shí),它可以在20秒或更短的時(shí)間內(nèi)提供高準(zhǔn)確度的測(cè)量值!


從技術(shù)指標(biāo)和實(shí)際使用效果看,SPECTRO LAB S均是適合金屬冶煉廠的測(cè)試需求。對(duì)于金屬再加工生產(chǎn)商、汽車和航空航天制造商、以及成品和半成品、電子產(chǎn)品、半導(dǎo)體等制造商來說,可以給出的解決方案同樣出色。


創(chuàng)新點(diǎn)


1、獨(dú)立雙光室,確保所有分析譜線都獲得很高分辨率。 SPECTROLAB S 配備兩套完整的專用光學(xué)系統(tǒng)。一個(gè)光室精確測(cè)量波長(zhǎng)從120到240納米(nm);另一個(gè)光室,波長(zhǎng)范圍從210到800納米(nm)。 兩個(gè)光室都采用先進(jìn)的CMOS檢測(cè)器,具備恒溫裝置和壓力補(bǔ)償功能。


2、等離子發(fā)生器數(shù)字光源和點(diǎn)火板可靠的新型高能LDMOS等離子發(fā)生器光源,為SPECTROLAB S 輸出高穩(wěn)定的火花放電,頻率高達(dá)1000 Hz,只需要很短的時(shí)間即可完成測(cè)試,例如分析低合金鋼小于 20 秒。該系統(tǒng)還允許特定應(yīng)用的火花參數(shù)設(shè)置,以優(yōu)化分析性能。


3、精密氬氣控制系統(tǒng) SPECTROLAB S 采用全新程控流量。軟件根據(jù)分析程序精密設(shè)置氬氣流量。節(jié)約了氬氣消耗。氬氣閥體直接耦合到火花臺(tái),無需管道連接,避免漏氣。


4、火花臺(tái)清理間隔大大延長(zhǎng) 堅(jiān)固的陶瓷內(nèi)芯避免積塵粘附。流暢的氣路設(shè)計(jì)確保了很少的粉塵殘留(使得清理間隔時(shí)間延長(zhǎng)了8倍);對(duì)于大樣品量輸出的全自動(dòng)光譜儀系統(tǒng)尤為重要。


5、快速讀出系統(tǒng) 斯派克的GigE創(chuàng)新讀出系統(tǒng)確保海量數(shù)據(jù)的極速處理,從而支持儀器性能表現(xiàn)。實(shí)現(xiàn)了全光譜范圍譜圖記錄。


6、低檢出限。SPECTROLAB S 采用的 CMOS+T技術(shù),在關(guān)鍵元素的檢測(cè)限方面,超越光電倍增管技術(shù)的性能。通過配置參比通道,工作曲線可以獲得很好優(yōu)化,可以快速定量分析ppm量級(jí)的高純金屬或合金中的痕量元素。


7、元素在低合金鋼中平均檢測(cè)限改善2倍,元素在純鋁中的平均檢測(cè)限改善5倍。


8、單一標(biāo)樣實(shí)現(xiàn)整個(gè)系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)化, 此項(xiàng)每天可節(jié)省30分鐘工作時(shí)間。

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